据麦姆斯咨询报道，总部位于丹麦哥本哈根的先进光学解决方案领先供应商NIL Technology（以下简称：NILT），近日发布了具有突破性性能的平面光学元件。
完整的近红外（NIR）模组会采用940 nm超透镜和近红外传感器。NILT表示，当前展示的超透镜以及为客户定制的超透镜原型已经完成制造并发货，正着手量产准备。
NILT认为，十多年来，智能手机和其它电子产品中摄像头的镜头并没有出现革命性的变化，依然停留在陈旧的理念“镜头由多片体积较大的折射镜头或镜片堆叠实现”。NILT的使命是通过显著减少镜头系统的尺寸和复杂性，为智能手机摄像头带来革命性的变化。
NILT首次演示了集成单个超表面透镜的940 nm近红外成像镜头，这种设计的目标应用是智能手机中的3D传感、人脸识别以及汽车驾驶员监控。
NILT表示，其单个超透镜，命名为1M，这款超光学元件（MOE）在形态、性能、尺寸和效率方面均具有革命性意义，并验证了MOE相比传统折射镜头的独特优势。
主要性能
紧凑性：MOE比折射镜头更平整、更薄、更轻，结构非常简单。
成像质量：MOE成像质量显著提升，在镜头总长较短的条件下，视场角大、光圈值低、调制传递函数（MTF）值高、相对照度高。
成本效益：组装成本和集成复杂性将降低。
坚固性：玻璃上硅衬底使透镜更坚固、热稳定更佳。
交付快：从设计到交付，周期在四周内。
NILT在高精度纳米结构领域拥有超过15年的经验积累，并正在利用这一经验实现MOE的快速原型化和批量生产。MOE原型是通过高质量电子束光刻（EBL）实现的，其生产周期明显短于深紫外光束成像（DUV）。
此外，EBL具有超高的分辨率、高度的设计自由度。在量产阶段选用对超原子几何形状没有限制的纳米压印光刻完成，确保生产出性能最佳的超透镜。此外，NILT选择纳米压印光刻技术，不会受限于半导体制造对几何尺寸的限制和工艺能力，即可实现规模生产。
NILT首席执行官兼创始人Theodor Nielsen评论说，“定制生产MOE需要结合高度专业的知识、验证和可靠性测量。NILT是一家成熟的公司，我们已经完成了超过1500份采购订单。此外，这么多年来，我们已经完成很多原型产品的定制。”
NILT正在实现超透镜的设计、原型制造、组装和量产，所有环节都在公司内部完成。因此，NILT具备批量生产MOE的能力，在短短四周内完成从设计到原型交付，并在不到两周内完成进一步的重新设计。NILT设计的标准超透镜已经对外出货。
